根據中國媒體的報導，臺積電南京有限公司總經理羅鎮球日前在 ICMC 2017 上表示，臺積電 7 納米制程預計 2017 年下半將為客戶 tape－out 生產。此外，他還透露，現階段 EUV 最新曝光機臺在臺積電已經可以達到連續 3 天，穩定處理超過 1,500 片 12 寸晶圓的狀態。根據時程，臺積電南京廠預計 2017 下半年就要安裝生產機臺，2018 上半年試產，2018 下半年正式投入量產。
報導中指出，羅鎮球指出，臺積電作為全球最大晶圓代工廠，將會持續推進摩爾定律。目前臺積電 10 納米制程已順利量產，2017 年下半年 7 納米制程也將正式 tape－out。而臺積電所采用 ASML 最新 EUV 的型號為 NXE3350 的曝光機臺，光源已經可以提高到 125 瓦，同時已達到連續 3 天處理 1,500 片 12 寸晶圓的水準。
羅鎮球還指出，未來智能芯片將會滲透到個人、工業、零售、智慧城市領域，摩爾定律也將持續推動芯片走向低功耗、高性能、小面積。而事實上，半導體產業未來的挑戰不僅只有制程微縮而已，其他的挑戰還包括 EUV、整個電晶體的架構從 2D 轉變成 3D，以及整個環繞式 ALL Around Gate、Narrow－wide Device 等等。
羅鎮球舉例，臺積電目前在 3D 芯片領域開展了多條創新技術，包括 IC 系統整合 CoWos，將不同晶圓切割好再堆疊，單位體積上達到更高密度電晶體；目前此技術已在 GPU 芯片實現量產。這些都是臺積電在運用普及計算中的技術創新。
目前位于南京浦口的工廠是臺積電在中國大陸地區的第一座 12 寸晶圓廠。羅鎮球透露，臺積電南京廠預計 2017 下半年就要安裝生產機臺，并且于 2018 上半年試產， 2018 下半年正式投入量產。
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