半導體進入7nm節點，最核心的技術之一就是EUV（極紫外）光刻，然而，設備僅僅來自荷蘭ASML（阿斯麥）一家。

今年，ASML最多可以生產12臺EUV光刻機（NXE：3400B），單臺價格超過1億歐元，媲美一架美軍F35戰機。可是，ASML預計，3季度的營收將繼續上漲25%。

原來，3400B積壓的訂單數量已經超過27臺，Intel、臺積電和三星前不久剛剛加買了8臺，不過，此前未發出/生產的貨品已經多數來自Intel，可見巨頭的既看重又著急。

好消息是，在7月中旬的半導體設備展上，ASML宣布，公司已經達成了最重要且長期難以突破的里程碑：250瓦的EUV光源。

光源功率(source power)──也就是傳送到掃描機以實現晶圓曝光的EUV光子(photon)數量之量測值──直接等同于生產力，芯片制造商一直以來都堅持250瓦的光源功率是達成每小時125片晶圓(WPH)生產量的必要條件，即production-ready。

早在2007年，AMD就預言，2012到2013年將是EUV技術量產的開端，但這些年正是因為光源功率不達標，進度十分緩慢，2012年的實際指標僅僅是25W，良率低的可憐。

雖然3400B大部分被Intel買走，但巨頭卻對何時導入量產三緘其口。

最新消息顯示，GF和臺積電決定先引入DUV（深紫外光刻）作為7nm第一代，第二代再上EUV。