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芯片工藝制造:現實遠比理想殘酷

責任編輯:editor004

2016-01-22 11:28:21

摘自:OFweek電子工程網

先進的制造工藝一直是Intel橫行江湖的最大資本,不過受技術難度和市場因素的種種不利影響,Intel前進的步伐也逐漸緩慢了下來。

先進的制造工藝一直是Intel橫行江湖的最大資本,不過受技術難度和市場因素的種種不利影響,Intel前進的步伐也逐漸緩慢了下來。

這一點在14nm上就已經充分體現出來,不但最初的Broadwell家族一拖再拖,并跳過了桌面市場,今年還會繼Skylake之后推出第三代基于此工藝的產品Kaby Lake,這在Intel實施Tick-Tock發展策略原來還是第一次。

其實,Intel對此也毫不避諱,很大方地承認,過去兩代工藝的發展經歷表明,Tick-Tock的周期已經從兩年延長到兩年半左右。

芯片工藝制造:現實遠比理想殘酷 連Intel、臺積電也不能例外

為此,Intel將在2016年第二季度推出第三代14nm工藝產品,也就是Kaby Lake,它會在Skylake的基礎上做關鍵的性能增強,并為轉換到10nm工藝做好充分的鋪墊。

2017年下半年,Intel終將發布首個10nm工藝產品,代號為Cannon Lake。

那么再往后呢?根據最新曝光的路線圖,2018年我們將會看到“Ice Lake”,2019年則是“Tiger Lake”,依然都是10nm,也就是說繼續用三代!

7nm、5nm的工作也早就展開了,預計最早分別在2020、2023年實現。

芯片工藝制造:現實遠比理想殘酷 連Intel、臺積電也不能例外

臺積電說會在2018年下半年開始試產7nm,然后再過兩年試產5nm并首次使用EUV極紫外光刻,徹底反超Intel。

看起來很是牛氣沖天,但是別忘了,臺積電在宣傳方面從來都是高手,最近幾代卻沒有一個按時實現的,而且試產只是開始而已,距離量產和設備上市還得一兩年的事兒。芯片工藝制造:現實遠比理想殘酷 連Intel、臺積電也不能例外

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