6日發表在英國《自然》雜志網絡版上的研究說，這個由美國、中國和丹麥科研人員組成的團隊合成出首個納米尺寸上的絕緣硅分子，可有效防止晶體管縮小后產生的泄漏電流。
研究人員說，電流泄漏的原因是“量子隧穿效應”，這種效應導致電子等微觀粒子能夠穿過它們本來無法通過的“墻壁”。研究人員曾認為真空屏蔽能讓晶體管之間絕緣，但當兩個金屬電極距離近到一定程度時，仍然會發生電流泄漏。這項新研究顯示，硅分子絕緣體比相同尺寸的真空屏蔽具有更好的絕緣性。
論文作者之一、美國哥倫比亞大學的李海星對新華社記者說，這一設計的獨特之處在于，兩個電極間的硅分子實現了電子輸運的量子相消干涉，從而實現絕緣。李海星說：“如果把電子想成波，波峰與波谷的疊加會產生相消干涉，這意味著電子傳輸減弱。”
研究人員說，使用硅材料的絕緣體與當前工業標準兼容，易于投產應用。
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