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聯電與Avalanche合作開發28nm MRAM存儲芯片

責任編輯:zsheng

2018-08-08 12:17:48

摘自:電子工程世界

雖然臺積電、三星以及Globalfoundries公司都會在今年底或者明年初量產更先進的7nm工藝,不過其他技術的工藝并不意味著就會淘汰,在半導體工藝節點上將會存在一些很長壽的制程,28nm工藝就是其中的一個,即便是臺積電,28nm工藝帶來的營收依然是大頭,營收比例超過其他先進工藝。

雖然臺積電、三星以及Globalfoundries公司都會在今年底或者明年初量產更先進的7nm工藝,不過其他技術的工藝并不意味著就會淘汰,在半導體工藝節點上將會存在一些很長壽的制程,28nm工藝就是其中的一個,即便是臺積電,28nm工藝帶來的營收依然是大頭,營收比例超過其他先進工藝。UMC臺聯電也給自家的28nm找到了新的領域,他們宣布與美國Avalanche公司合作研發28nm工藝的MRAM存儲芯片。

MRAM磁阻式隨機存儲芯片是下一代存儲芯片的候選人之一,兼具非易失、高速度、高密度、低耗等各種優良特性,可說是集各種記憶體優點于一體的產品,因此被認為是電子設備中的理想存儲器。只不過這些指標還是理論上的,MRAM芯片離取代內存、閃存的日子還早著呢,但在物聯網、工業、汽車電子行業應用前景很廣泛。

美國公司Avalanche主要研發ST- MRAM (自旋矩磁阻RAM)技術,日前他們宣布與UMC聯電達成合作協議,共同研發MRAM芯片,同時聯電也將透過Avalanche的授權提供技術給其他公司,并透過授權提供客戶具有成本效益的28 奈米嵌入式非揮發性MRAM技術。

在28nm工藝之外,兩家公司還考慮將合作范圍擴展到28nm以下的工藝中去。

在聯電之前,臺積電也宣布使用28nm工藝生產eMRAM及eRRAM芯片,預計2018年底試產。三星早前宣布4nm工藝時也提到了會針對物聯網市場推出28nm FD-SOI工藝,也會生產eMRAM存儲芯片。Globalfoundries之前公布的22FDX工藝也同樣針對低功耗的物聯網市場,也會推進eMRAM芯片研發生產。

國內的中芯國際也針對下一代存儲芯片布局了,去年初他們宣布已經出樣40nm工藝的ReRAM芯片,這種芯片密度比DRAM內存高40倍,讀取速度快100倍,寫入速度快1000倍,耐久度高1000倍,單芯片(200mm2左右)即可實現TB級存儲,還具備結構簡單、易于制造等優點。

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