以中微半導體為代表的中國本土企業，在全球刻蝕機的市場競爭中占據了一席之地。
芯片刻蝕機不是光刻機
刻蝕機是芯片制造的重要設備，不少人可能會將光刻機和刻蝕機混淆起來。
其實光刻機和刻蝕機是兩種不同的設備。光刻機的工作原理是用光將掩膜版上的電路結構臨時復制到硅片上。而刻蝕機的工作原理是按光刻機刻出的電路結構，在硅片上進行微觀雕刻，刻出溝槽或接觸孔。刻蝕利用顯影后的光刻膠圖形作為掩模，在襯底上腐蝕掉一定深度的薄膜物質，隨后得到與光刻膠圖形相同的集成電路圖形。
打個比方，光刻機的工作就好象木匠用墨線在木板上畫線，而刻蝕機的工作則是木匠在木板上按照墨線的痕跡雕花。
在芯片的生產過程中，首先要用到的是光刻機，隨后就要用到刻蝕機。
光刻機與刻蝕機的性能決定了芯片的工藝制程。芯片行業的國際巨頭制定了不斷提高其芯片的工藝制程的戰略，比如英特爾14/10/7納米、臺積電16/12/10/7/5納米、三星14/10/8/7/6納米、格羅方德14/7納米……
其中7納米已經成為一個關鍵的技術指標，而要實現7納米的芯片工藝制程，光刻機與刻蝕機都應該具有7納米的工藝能力。
刻蝕機分為干刻、濕刻兩種。其中濕刻一般依靠化學方法，需要有化學液體的參與;而干刻的過程則沒有液體參與。
其中，等離子體刻蝕是一種干法刻蝕。
等離子體具備兩個特點：等離子體中的氣體化學活性很強，根據被刻蝕材料的不同，選擇合適的氣體，就可以更快地與材料進行反應，實現刻蝕的目的(在硅片上的刻蝕就是等離子體與硅反應);另外一方面，等離子體是帶電的，因此還可以利用電場對等離子體進行引導和加速，使其中的離子具備一定能量，當離子轟擊被刻蝕物的表面時，會將被刻蝕物材料的原子擊出，從而依靠物理能量的轉移來實現刻蝕(這有點像汽車開過水坑，把水濺出來一樣)。
等離子刻蝕機正是利用等離子體在晶圓表面進行集成電路(芯片)圖形雕刻的工具。
但制造這種儀器卻具有很高的難度，比如有一種等離子刻蝕機需要用到電感耦合等離子體源，而這種射頻源的制造在電路設計上就很不簡單。而且為了保證等離子體的質量，還需要很高真空度。因此，綜合起來，這是一個有技術難度的高科技儀器。
國外芯片刻蝕機生產企業有哪些?
國外的刻蝕機在中國的售價一般是每臺幾百萬人民幣，屬于高端儀器。
這些外國公司開發的刻蝕機在中國占據了很大的市場份額。
在刻蝕機市場上，國外企業占據統治地位。而且，這些巨頭們已經開始合并，謀取壟斷溢價。比如應用材料公司與東京電子已經合并;而泛林半導體與科磊也曾經謀求合并，試圖強強聯合打造聯合體。強強聯合能減少市場競爭，保持高額利潤，因此中國企業要在這個外國企業強敵環伺的局面中殺出重圍，必須依靠自己過硬的核心技術。
核心技術的發展并不是一蹴而就的。對于刻蝕機來說，其對加工精度的要求非常高。以16納米的芯片來說，等離子體刻蝕的加工尺度要達到普通人頭發絲的五千分之一，而加工的精度和重復性更要達到頭發絲的五萬分之一。因此，這類儀器對機械精度要求很高。而這與中國的精密加工機床等設備相關，因此這是整個工業體系的問題，而不僅僅只是刻蝕機單一領域的問題。
中國國內的芯片刻蝕機生產企業
2017年3月，央視《中國財經報道》報道了中國國內的一家芯片刻蝕機生產企業：中微半導體設備(上海)有限公司。
《互聯網周刊》查詢了中微半導體企業網站，據網站介紹，其自主研發Primo AD-RIE刻蝕機，可以用于22納米芯片刻蝕加工。
雖然與外國最先進的7納米工藝的刻蝕機相比，中微半導體刻蝕機的技術指標還停留在22納米處。但是，中微半導體顯然已經為中國人在這一核心技術領域爭得了一定的話語權。而這份成績其實來之不易。應用材料和泛林半導體等曾經相繼對中微半導體提起專利訴訟，試圖用知識產權官司壓制住中微半導體的發展。但基于自主研發的中微半導體拿出了關鍵性的技術專利證據之后，這兩次訴訟都以中微半導體獲勝告終。而且，最近上海海關還扣留了外國某公司涉嫌侵害中微半導體專利的芯片制造設備，切實維護了中微半導體的知識產權權益。
為什么中微半導體可以取得成功?這離不開其創始人尹志堯博士孜孜以求的努力。尹志堯在回國創辦中微半導體之前，曾經在美國應用材料公司擔任總公司副總裁，他親自參與了幾代等離子體刻蝕機的研發，積累了豐富的經驗。
目前看來，中微半導體已經在刻蝕機核心技術上突破了外國企業的壟斷!這顯然已經成為中國芯片產業為數不多的亮點之一。
除了中微半導體，成立于2001年的北方微電子也正在積極研制高質量的刻蝕機，其也承擔了國家重大專項集成電路關鍵裝備研發和產業化項目。這也是一家不容被忽視的刻蝕機生產企業。
中國在芯片刻蝕機上正在不斷努力。雖然最近美國政府對中興通訊的芯片封殺禁令已經有松動的跡象，但中國人發展自己的芯片核心裝備的步伐不能松懈。只有像中微半導體等公司那樣，堅持走自主研發道路，才能掌握主動權，振興芯片民族工業，最后實現偉大的“中國夢”。
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