本周一，三星宣布了全新的11nm LPP工藝，它將用于三星后續(xù)推出的中高端機(jī)型。三星在新聞公告中表示，11nm LLP的性能相比此前的14nm LLP提升了15%，單位面積的功耗降低了10%。
目前三星的14nm LLP芯片主要用于2017年版Galaxy A系列和J系列手機(jī)。三星表示，10nm用于旗艦手機(jī)，11nm用于中高端，形成差異化，預(yù)計(jì)2018年上半年在市場(chǎng)投放。與此同時(shí)，三星也成為了市場(chǎng)上最先確認(rèn)7nm的企業(yè)，其7nm LPP定于2018下半年開(kāi)始試產(chǎn)，采用EUV極紫外光刻技術(shù)。
三星電子晶圓營(yíng)銷(xiāo)副總裁Ryan Lee表示：“三星已經(jīng)在路線圖中加入了11nm工藝，為多種應(yīng)用提供了先進(jìn)的選項(xiàng)。此舉意味著，三星已經(jīng)完成了全面的芯片工藝路線圖的繪制，在未來(lái)三年，三星將從14nm到11nm，再到10nm，8nm以及7nm。”而根據(jù)今年5月份三星宣布的路線圖，他們更長(zhǎng)遠(yuǎn)的目標(biāo)是做到4nm。
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