三星在二季度的收入一舉超越Intel，成為全球第一大半導體公司。這些年受惠于高通驍龍芯片、AMD Ryzen/Vega/Polaris的成功，三星的代工生意不僅風生水起、日進斗金，而且不在不知不覺中走在了制程工藝的最前列。今天，三星宣布，新加入了11nm LPP工藝，其實就是改良后的14nm LPP馬甲，不過性能提升了15%，單位面積的功耗降低了10%。
這明顯就是對打臺積電12nm FinFET，只是二位都不老實，擅自混亂地給制程命名，也難怪這么多年都被Intel貶低，比如“三星10nm=Intel 14nm”。
三星表示，10nm用于旗艦手機，11nm用于中高端，形成差異化，預計2018年上半年在市場投放。
與此同時，三星也成為了市場上最先確認7nm的企業(yè)，其7nm LPP定于2018下半年量產，采用EUV極紫外光刻技術。
EUV雖然困難重重，但ASML已經開始出貨定型的光刻機。三星也表示，從2014年開始，基于EUV處理了200000片晶圓，目前在256Mb SRAM（靜態(tài)隨機存儲器）良率已經達到了80%。
關于11nm和7nm更進一步的細節(jié)，三星定于9月15日在東京舉辦的半導體會議上揭示，未來的技術路線圖也會更新。
京公網安備 11010502049343號