摘要：英特爾曾自詡，未來電腦將更快、更便宜和更小型化。但近幾年來，英特爾卻失去了芯片制造工藝的優勢。英特爾并沒能跟上幾十年來遵循的路線完成芯片設計，最終導致其產品置于十分尷尬的時期。按照以往，英特爾每兩年時間自家的芯片制造工藝都會向前邁進一個步伐，然而最近這幾年變成了每兩年半，說的就是 14 納米制造工藝。

更有意思的是，接下來的 10 納米工藝英特爾似乎更加犯難，因為英特預期至少要等到 2017 年年底，跳票的話甚至有可能到 2018 年初，14 納米需要服役將近三年時間。

前不久，英格爾首席財務官出席摩根士丹利科技、媒體暨電信會議(Morgan Stanley Technology, Media &Telecom Conference)時 Stacy Smith 表示，希望在 10 納米時隔一年之后搞定 7 納米工藝制程，重新回到每兩年推進一次工藝進步的軌道上。

“我們希望是兩年搞定，但卻沒有。”Stacy Smith 稱，“我們將會看到 7 納米作為一場技術的變革，并可能讓我們重新找回為其兩年時間的節奏。”

英特爾長期以來始終維持所謂的摩爾定律，即當價格不變時，集成電路上可容納的元器件的數目，約每隔 18-24 個月便會增加一倍，性能也將提升一倍。 簡單的說，最遲每兩年時間，制造工藝的進步可以讓晶體管的密度翻一番，并且晶體管的成本進一步下降。

目前英特爾的目的就是要重新遵循摩爾定律，畢竟該定律早已成為數十年來英特爾賴以生存的信條。在向 14 納米工藝制程過渡的過程中，特別是其桌面平臺，去年才完成了更換換代，導致第五代和第六代架構的桌面酷睿產品同一年登場，一切原定的產品發布計劃變得四分五裂。

在 Broadwell 和 Skylake 架構之后，英特爾計劃今年發布全新代號為 Kaby Lake 架構的芯片，而基于 10 納米制造工藝的首批 Cannonlake 芯片，則定于 2017 年晚些時候登場。

最初線路圖：

據稱，為了順利回歸摩爾定律時間表，英特爾正押注 EUV（極紫外光刻）的新技術，該技術有助于消除芯片制造過程的復雜問題。但 EUV 現在還不能使用，因為還沒有配套工具，不出意外的話，Stacy Smith 口中所受的革命性 7 納米新品將有望首次運用到 EUV 微影技術，降低對多重圖形(multi-patterning)的需求。

Stacy Smith 坦誠，芯片變得越來越小，制造過程中出現問題的幾率隨之增加，多重圖形運用在當前 14 納米技術制造的過程中，已經難以進一步縮減芯片的尺寸。當然了，EUV 技術完成準備的時間也可能早于預期，或許在 10 納米時代就能夠運用，只不過 Stacy Smith 沒有對此確認，他表示英特爾尚未有此規劃。

眾所周知，英特爾在半導體行業已經失去了工藝制程領先的優勢，盡管在晶體管鰭片間距設計和實際性能上仍然領先，但無論是三星、臺積電還是 GlobalFoundries 的 10 納米工藝問世時間都比英特爾更早。

對于英特爾來說，重回摩爾定律的代價不低。據了解，英特爾指定一個為期 10 年投入 2700 億美元的規劃，用于生產和研發，包括晶圓、人力和工具（如 EUV 技術）和環保材料等，這個數字幾乎是最初英特爾 2011 年定的 1040 億的近三倍。