日前發(fā)表在英國(guó)《自然》雜志網(wǎng)絡(luò)版上的研究說，這個(gè)由美國(guó)、中國(guó)和丹麥科研人員組成的團(tuán)隊(duì)合成出首個(gè)納米尺寸上的絕緣硅分子，可有效防止晶體管縮小后產(chǎn)生的泄漏電流。

研究人員說，電流泄漏的原因是“量子隧穿效應(yīng)”，這種效應(yīng)導(dǎo)致電子等微觀粒子能夠穿過它們本來無法通過的“墻壁”。研究人員曾認(rèn)為真空屏蔽能讓晶體管之間絕緣，但當(dāng)兩個(gè)金屬電極距離近到一定程度時(shí)，仍然會(huì)發(fā)生電流泄漏。這項(xiàng)新研究顯示，硅分子絕緣體比相同尺寸的真空屏蔽具有更好的絕緣性。

論文作者之一、美國(guó)哥倫比亞大學(xué)的李海星對(duì)新華社記者說，這一設(shè)計(jì)的獨(dú)特之處在于，兩個(gè)電極間的硅分子實(shí)現(xiàn)了電子輸運(yùn)的量子相消干涉，從而實(shí)現(xiàn)絕緣。李海星說：“如果把電子想成波，波峰與波谷的疊加會(huì)產(chǎn)生相消干涉，這意味著電子傳輸減弱。”

研究人員說，使用硅材料的絕緣體與當(dāng)前工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)兼容，易于投產(chǎn)應(yīng)用。