隨著硬件工藝制程不斷縮減，傳統光刻技術已經無法滿足未來半導體芯片的制造要求，而EUV極紫外光刻技術被認為是未來10nm、7nm、5nm甚至3nm制程工藝芯片制造的核心技術。
眾所周知，中國在半導體芯片技術研發和制造方面均落后于國外，大多時候僅扮演代工者的角色，一旦與國際芯片企業的合作出現問題，國內廠商很有可能面臨危機。中芯國際這次采購行為表明了其幫助提升中國本土半導體制造技術的抱負日益增強。
此前，全球頂級芯片巨頭英特爾、三星電子和臺積電均已經向ASML訂購了多套EUV系統，以確保更強大、更先進芯片的后期生產，中芯國際此舉從長遠來看勢在必行。
京公網安備 11010502049343號