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NEC和東大開發零待機功耗內容可尋址存儲器

責任編輯:melo

2011-08-01 08:56:09

摘自:互聯網

在存儲器與邏輯電路(比較電路)融為一體的內容可尋址存儲器(CAM)方面,NEC和日本東北大學全球首次開發出了與原有CAM保持同等處理速度、切斷電源后仍能保存數據的非易失化技術。

在存儲器與邏輯電路(比較電路)融為一體的內容可尋址存儲器(CAM)方面,NEC和日本東北大學全球首次開發出了與原有CAM保持同等處理速度、切斷電源后仍能保存數據的非易失化技術。CAM的每個bit都擁有比較電路,能快速找出與輸入字符一致的數據存儲地址,并返回該地址。在CPU等的SoC(System on a Chip)內,CAM被用于轉換內存地址。

采用該技術,無需犧牲啟動時間,即可將CAM的待機功耗降為零*1。并且,有利于實現即使待機功耗為零、再接通電源時也能夠瞬間啟用的電子產品。

NEC計劃3~4年后使該技術達到實用水平。由于元件采用不同于以往的材料,因此確立工藝技術是目前面臨的課題。

現在,各種電子產品的待機功耗都很大。比如:臺式電腦在睡眠狀態下,會消耗約2.4W電力。42英寸的液晶電視在高速啟動模式下,待機功耗高達約18W。

這是因為現在的電子產品為了縮短啟動時間,必須保持內部電路的通電狀態。比如,原來在切斷電源時CPU會丟失內部信息,因此在斷電時必須將信息轉移到外部存儲裝置,而再通電時,必須重新讀入這些信息。如果將新開發的CAM應用于CPU,則無需從外部存儲裝置重新讀入信息,因此能夠縮短啟動時間。當然,CPU中除CAM以外,還配備有存儲器和運算電路等,因此要想將整個系統LSI的待機功耗降為零,那么這些部件均實現非易失化也至關重要。

磁化方向隨磁壁位置而改變

NEC和日本東北大學為實現CAM非易失化采用的是垂直磁壁元件。這是使磁化與電流垂直,優化了結構和材料的元件。如圖2所示,該元件由鈷鎳(Co-Ni)疊層膜構成的磁性體層(自由層)和鈷鉑(Co-Pt)疊層膜構成的強力磁鐵(引腳層)組成。

為使自由層兩端的磁化方向相反,用引腳層固定,因此中途會形成磁化方向由向上變成向下的壁(磁壁)。寫入電流通過時,該磁壁的位置移至電流上流(電子流的下游)。

電流沿著長度方向在自由層內部流動。在電流流入流出的自由層兩端的下部配置引腳層,將自由層兩端的磁化方向一端向上固定,另一端向下固定。

從微觀來看,這時的自由層磁化方向就是Co-Ni疊層膜的不成對電子的自旋方向。因此,電子在自由層內從磁化方向向上側向向下側流動時,新流入自由層的電子向上自旋。

同時,該電子將向上自旋的原有不成對電子擠向下游。該不成對電子進一步將下游的不成對電子擠向下游,不成對電子就像臺球一樣依次傳向下游。

結果,自由層內磁化方向突變的磁壁的位置也向電子流的下游(電流的上流)移動。從而使得自由層長度方向中央部的磁化方向向上(信息“0”),改變電流方向時,磁化方向就變成向下(信息“1”)。

這樣,垂直磁壁元件就能夠根據電流(寫入電流)方向來移動磁壁的位置。由于磁壁的位置一直保持到下次寫入電流通過,因此即使切斷電源也能夠保存信息。

靠外配置MTJ元件

在這項新技術中,用于讀取所存儲的磁化方向的是磁性隧道結(MTJ)元件。該元件由讀取引腳層、絕緣體通道膜和讀取自由層構成。讀取引腳層和讀取自由層的磁化方向相同,電阻就會減小,反之,電阻就會增大。

如圖3所示,將MTJ元件配置在垂直磁壁元件的長邊中央部分的上方。這樣,垂直磁壁元件中央部分的磁化方向向上時,就會使讀取自由層發生向外的磁化,元件中央部分的磁化方向向下時,就會發生向內的磁化。由于讀取引腳層的磁化方向是固定向外的,因此垂直磁壁元件自由層中央部的磁化向上時,MTJ元件的電阻就會減小,向下時,電阻就會增大。

垂直磁壁元件中央部的磁化方向向上時,讀取MTJ元件的讀取自由層的磁化方向向外,元件中央部的磁化方向向下時,讀取MTJ元件的讀取自由層的磁化方向向內。由于讀取引腳層的磁化方向是固定向外的,因此讀取MTJ元件的電阻值在磁化方向向上時減小,在磁化方向向下時增大。

實際上,是采用圖4所示的電路向垂直磁壁元件寫入和通過MTJ元件來讀取的。將兩個垂直磁壁元件串聯,同時進行寫入,以在一個寫入電流下使兩個垂直磁壁元件的磁化方向相反。

一個特點是兩個垂直磁壁元件串聯,同時進行寫入,以在一種寫入電流下使兩個垂直磁壁元件的磁化方向相反。另一個特點是分離了寫入電流和讀取電流的通道。

根據這些MTJ元件讀取電流的大小可以辨別出所存儲的信息是1還是0。如果用絕對值檢測電流,則需要復雜的電路,而利用該方法只需要比較大小,因此用簡單的電路即可。

另外,由于分離了寫入電流和讀取電流的兩個通道,因此不用擔心從寫入轉為讀取時,電流會流過讀取電流的通道,無需等待即可開始讀取工作。這樣,周期為5ns時,便實現了與使用原有CMOS晶體管的CAM同等的處理速度*2。另外,通過共用垂直磁壁元件的寫入晶體管,面積比原來的CAM減半。耗電量為9.4mW。

NEC

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