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存儲空間新技術或將面世

責任編輯:editor03

2014-11-21 15:51:33

摘自:新華網

英國新一期《自然》雜志刊載新研究說,科研人員開發(fā)出一種分子材料,可克服傳統(tǒng)電子元件造成的閃存空間限制問題,使常用的相機、手機等存儲卡提升存儲能力。

英國新一期《自然》雜志刊載新研究說,科研人員開發(fā)出一種分子材料,可克服傳統(tǒng)電子元件造成的閃存空間限制問題,使常用的相機、手機等存儲卡提升存儲能力。

閃存是一種很普遍的數(shù)據存儲技術,但由于現(xiàn)有的數(shù)據單元設計問題,這種存儲方式有著物理上的局限性。目前閃存裝置采用金屬氧化物半導體,而用這種材料很難生產出10個納米單位以下大小的元件,這就限制了傳統(tǒng)硅芯片所能存儲的空間。

此前也有研究提出,可嘗試用單個分子替代這種金屬氧化物,從而打破物理局限性。但分子存儲材料存在耐熱性差、高電阻等許多現(xiàn)實障礙。為此,英國格拉斯哥大學研究人員與西班牙同行一起,利用一種被稱為“多金屬氧鹽酸”的化合物,合成出一類可發(fā)揮存儲作用的分子。實驗顯示,這種分子的結構穩(wěn)定性和通電能力都符合要求,可用作閃存裝置的存儲節(jié)點。

領導這項研究的格拉斯哥大學教授李·克羅寧說,這種新材料的一大好處在于,它們可直接安裝在現(xiàn)有的閃存設備中,而不需要重新設計整條閃存裝置生產線,在擴大存儲空間的同時還可節(jié)約成本。

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