美光16納米NAND晶圓
美光公司日前召開一次分析師簡報會,并借此機會討論了3D閃存與3D交叉點(即XPoint)內存技術及未來發展規劃。
美光方面制定的2016年非易失性內存運營優先策略包括:
推動第一代3D NAND產品,且逐步實現第二代3D NAND量產化。
到2016年秋季將3D閃存產量在NAND閃存代工問題中的占比提升至50%以上。
3D XPoint正式投放市場。
三維架構采用32層結構的第一代3D NAND將由美光公司位于新加坡的FAB 10工廠負責生產。該公司認為其第一代3D NAND在成本方面將較當前16納米平面(即2D)NAND低25%。TLC(三層單元)3D NAND生產優先級高于MLC(即雙層單元),而TLC總體產量將在2017年第一季度超過MLC產品。
美光公司正計劃部署其第二代3D NAND,以及在此之后的第三與第四代技術方案。該公司認為第二代3D NAND將把成本在第一代成果的基礎上再壓低30%,而FAB 10工廠則將于今年夏季開始生產第二代晶圓。美光方面同時指出,其32層3D NAND的成本結構基本等同于三星公司的48層方案。
美光2D NAND產量與MLC/TLC各自生產占比。
分析企業尼古拉斯公司總經理Aaron Rakers指出,美光公司將晶圓邏輯電路排布在32層浮柵結構存儲器陣列之下,這意味著其能夠利用每片晶圓生產出更多存儲位。而根據美光方面的說明,其競爭對手則采用電荷捕獲架構,這種方式在此類陣列設計方案中難以排布CMOS邏輯電路。
美光方面并沒有提到其第二代3D NAND技術所使用的具體層數。根據我們的了解,目前3D NAND存儲密度提升可以通過以下三種方式實現:
將陣列數量由32層提升至48層乃至更高。
降低存儲單元尺寸。
在每個存儲單元中添加第四bit位(即QLC)。
這次報告也談到了QLC閃存,但并沒有涉及任何明確發展規劃。而且正如大家所知,QLC閃存較TLC閃存在使用壽命與速度上皆存在較大下滑,這意味著需要利用控制器功能抵消這些不利因素的影響。
因此如果美光的第二代3D NAND采用尺寸更小的存儲單元甚至提高層數結構,那么可以說完全在我們的意料之中。
Rakers同時寫道,"美光公司承認其在過去幾年當中錯過了發展TLC的良好時機,目前其正打算解決這一問題并更為積極地推動發展。"
XPoint3D XPoint內存擁有一套多代發展路線圖。第一代產品的既定思路在于實現技術成果量產化。
到2022年,XPoint的4.4 EB(相當于44億GB)版本將正式發售。
這份圖表顯示4.4 EB容量版本的XPoint將于2022年投放主流服務器市場,屆時將有近半數二路與四路x86服務器將其作為存儲方案。
這份XPoint發展路線圖確實在每bit成本、性能以及存儲密度方面做出了巨大改進,我們估計其具體實現方式應該源自晶圓尺寸削減以及/或者層數增長。不過圖表本身并未對此做出說明,美光公司自身也一直對XPoint的技術細節保持沉默。
未來內存技術除了XPoint,現有20納米DRAM芯片亦計劃向次20納米DRAM(即1X納米--也許在15到16納米區間,乃至逐步縮小的1Y納米與1Z納米范疇)前進,這意味著美光公司在其未來內存技術領域擁有兩條前進路線。
其中新型內存A代表DRAM,即在保留能力、速度與耐用性方面擁有突出優勢的高性能解決方案,即代表著非易失性內存。
而新型內存B代表則低成本NAND存儲方案,其同樣擁有非易失特性。
內存應用市場美光公司認為移動設備將需要利用存儲級內存技術優化其性能/功耗水平,同時利用3D NAND乃至16納米平面閃存提升容量表現。
在SSD PCIe領域,NVMe與SAS將主導高端服務器與存儲工作負載領域。下一代系統將采用容量超過1 TB的驅動器方案。美光公司認為配備有SSD的向外擴展服務器將憑借著快速超過2 TB的高容量優勢沖擊傳統存儲架構。而在超大規模部署場景內,SATA則將憑借著出色的延遲性能水平占據主導地位。
而在消費級市場領域,SSD將憑借著自身卓越的便攜性以及功耗水平成為主流,這意味著SSD普及率則頂住PC需求的一路下跌/平穩逆風實現持續增長(2015年內約有35%的PC設備采用SSD)。
我們應當會在2016年第二季度迎來2 TB消費級SSD產品,而且第三季度則將帶來1 TB單面M.2格式3D NAND SSD。對于超大規模用戶,美光公司預計8 TB甚至容量更大的3D NAND SSD將在2016年第四季度出爐。
我們將在2017年第一季度見證3D NAND SSD在企業級市場上的全面推出,其將在性能與容量方面超越現有SAS與PCIe接口方案。
美光公司在2016年秋季將把3D NAND作為其閃存代工體系的主要生產對象,具體時間點在今年9月末到12月末之間。