英特爾此次以55億美元的大手筆增資轉產，究竟將采用何種技術？對于這一關鍵環節，英特爾方面迄今并未宣布，引發業界、特別是大連市有關方面的關注和猜想，這也將成為英特爾大連工廠未來技術路線圖的焦點所在。

大連市半導體協會會長唐忠德在接受記者采訪時分析認為，英特爾大連工廠在大手筆實施增資轉產后，一定是采用目前國內最頂尖的技術，有可能比國內目前的技術水平領先一——二代，但仍將比國際最先進水平落后至少二代。這是符合瓦圣納協議的相關限制規定的。（這是冷戰時代的產物，即對在傳統武器和雙重用途的貨物和技術輸出控制的國際協定。）這個判斷既符合此產品的性能特點，也符合瓦圣納協議的限制條款。

根據分析，要在大連生產這樣一種3D存儲器產品，其對工藝水平和技術要求非常高。從近年英特爾的技術發展路線圖分析，可以得出一個基本的判斷。2010年，英特爾與美光曾宣布，推出25納米的新存儲器工藝技術。2011年，英特爾與美光再次宣布，采用最先進的20納米工藝技術。2013年，英特爾宣布采用14納米技術；2015年末，英特爾可能將采用10納米技術。同時，7納米技術和5納米技術已進入研發階段。由此判斷，英特爾大連工廠未來的存儲器生產，將采用節點技術，可能的技術水平介于20~28納米之間。據預計，如果采用22納米技術，則意味著該產品仍將與國際主流技術相差2代左右。這個判斷符合瓦圣納協議的限制條款。據預計，英特爾大連工廠最早將于2016年底投產，屆時，世界主流的工藝技術水平恰好將達到10納米，而10納米到20納米之間相差兩代。

根據推測，英特爾大連工廠的晶圓尺寸仍將采用300毫米，12英寸規格。目前中國集成電路產業工藝技術水平最高的是中芯國際，采用的是28納米技術，英特爾大連工廠未來采用的工藝技術水平至少將領先國內一代以上。

另外，由于英特爾大連工廠已于2010年正式投產，此次實施大規模的增資轉產，只是需要更換生產線上的很多設備，而不是另起爐灶，所以再次投產的時間將并不漫長，最快到明年底，預計英特爾大連工廠就將以一個全新的面貌再次進入投產階段。