據Digitimes引述News1 Korea報道，三星悄悄啟動了引入EUV(極紫外光)光刻工藝的DRAM內存芯片研發，基于1ynm。
報道稱，三星最快在2020年開始大量投產使用EUV 1ynm制造的DRAM芯片。
EUV光刻目前被三星、臺積電、Intel等用于7nm工藝節點上，制造的普遍是AP(應用處理器)。三星曾表示，7nm LPP工藝將在今年下半年量產，明年上半年推出首款可商用的邏輯芯片。
結合手頭掌握的資料，高通已經確認其5G基帶芯片將由三星的7nm代工。
責任編輯：zsheng
2018-06-19 22:23:56
摘自：驅動之家
作為DRAM芯片的龍頭企業，三星目前已經能量產10nm級、最大容量16Gb的LPDDR4內存、GDDR5顯存和DDR4內存等。
據Digitimes引述News1 Korea報道，三星悄悄啟動了引入EUV(極紫外光)光刻工藝的DRAM內存芯片研發，基于1ynm。
報道稱，三星最快在2020年開始大量投產使用EUV 1ynm制造的DRAM芯片。
EUV光刻目前被三星、臺積電、Intel等用于7nm工藝節點上，制造的普遍是AP(應用處理器)。三星曾表示，7nm LPP工藝將在今年下半年量產，明年上半年推出首款可商用的邏輯芯片。
結合手頭掌握的資料，高通已經確認其5G基帶芯片將由三星的7nm代工。
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